数据指标

活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用

浏览：次|评论：0条 [收藏] [评论]

活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术，消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷，且可处理聚合物材料

分享到：新浪微博 QQ空间腾讯微博人人网微信开心网腾讯朋友百度贴吧

延伸阅读

上一篇：合金化奥氏体中锰钢的研发与耐磨性能

下一篇：针状铁素体形成的研究现状及应用前景

[腾讯]
关键字：活性等离子体技术

返回新材料新工艺

冶金交流中心数据指标

现场技术服务

冶金工匠智库

经济技术文献

炼钢节能技术

资讯热线：15230111569—15373652759 客服电话：0311-85395669

网站首页 | 关于我们 | 联系方式 | 招聘信息 | 版权声明 | 付款方式
免责声明：本网站所刊登发布的所有信息数据、新闻、报告、产品、广告和专题旨在传递更多行业信息之目的
版权均归著作权人或页面内声明的版权人所有。

Copyright © 1999-2011 All rights reserved. 冀ICP备10202946号-1
违法和不良信息举报电话：0311-85395669 举报邮箱：yejinzg@126.com
公安机关备案号13010002250002